射频溅射法制备氮化锆薄膜工艺
发布时间：
2022-04-15 12:04
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氮化锆(ZrN)是一种不溶性化合物，根据其主题领域和采用的技术原理，具有金黄色、高分解温度、良好的化学稳定性、良好的耐高温性、耐腐蚀性和耐磨性。主要用于原子能工业反应堆保护层(核级锆也可提取)和航天火箭发动机喷管用氮化锆合金材料的生产技术。属于特种黄金耐高温合金材料，国防炮兵导弹用合金材料，也属于石属。
溅射和射频溅射目前薄膜的制备方法可以分为物理气相沉积和化学气相沉积。这种工艺的氮化锆薄膜主要是用物理气相沉积法(PVD)制备的。溅射技术一般以纯Zr为靶材制备ZrN薄膜，溅射一般采用氢气作为惰性气体，氢气的溅射率最高。Zr-N薄膜的形成主要涉及用氢离子轰击Zr靶并通入氮气，通过溅射位错离子和电离产生的氮离子沉积在基底上。涂层制备方案影响涂层结构和性能的直接因素是涂层工艺参数。氮气分压、溅射时间、溅射功率和衬底加热温度是溅射镀膜工艺的主要参数。我们使用以下两种方法来评估氮化锆薄膜的结构和性能的影响。2.1不同氮分压下氮化锆薄膜的制备为了测试不同氮分压对氮化锆薄膜表面形貌、结构、颜色和性能的影响，溅射功率、衬底加热温度和溅射时间保持不变。功率200W，时间30分钟，衬底加热温度200℃。
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